場發(fā)射掃描電鏡采用更為先進的肖脫基場發(fā)射光源。采用場發(fā)射光源后電子束能量更強，二次電子相(也就是我們平時所說的掃描照片)更加清晰，放大倍數在理想的情況下可以達到10萬倍以上。同時，在進行EBSD的測試中也具有相當的優(yōu)勢。主要由電子光學系統、信號收集處理系統、真空系統、圖像處理顯示和記錄系統、樣品室樣品臺、電源系統和計算機控制系統等組成。
場發(fā)射掃描電鏡的工作原理：
掃描電子顯微鏡是以能量為1—30kV間的電子束，以光柵狀掃描方式照射到被分析試樣的表面上，利用入射電子和試樣表面物質相互作用所產生的二次電子和背散射電子成像，獲得試樣表面微觀組織結構和形貌信息。配置波譜儀和能譜儀，利用所產生的X射線對試樣進行定性和定量化學成分分析。
場發(fā)射掃描電鏡的應用領域：
適用于納米材料精細形貌的觀察，可薛利高質量高分辨二次電子圖像。該儀器配備的X射線能譜儀可對塊狀樣品做定性及半定量分析。可向樣品室充入多種氣體，在低真空下仍能獲得優(yōu)于2nm的高分辨圖像；可向樣品室通入水蒸氣，使含水、含油及不導樣品可直接觀察；可在樣品室內對樣品做加溫、低溫處理，對化學反應過程進行實時觀測。該設備適用于物理、材料、半導體、超導體、化學高分子、地質礦物、生物、醫(yī)學等領域的微觀研究和分析。
